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SEMICON 2024圆满落幕! 快来认识颇尔令人振奋的产品解决方案
2024/4/8 17:57:22 来源:中国产业发展研究网 【字体:大 中 小】【收藏本页】【打印】【关闭】
核心提示:2024年3月20-22日,颇尔中国在上海新国际博览中心N4场馆#4471号为期三天的 SEMICON 2024展览闪耀亮相。这场展会汇聚了1100多家半导体展商,现场人头攒动, 成为业界的焦点。2024年3月20-22日,颇尔中国在上海新国际博览中心N4场馆#4471号为期三天的 SEMICON 2024展览闪耀亮相。这场展会汇聚了1100多家半导体展商,现场人头攒动, 成为业界的焦点。颇尔微电子全球副总裁Dasent Shangaza,颇尔中国总经理陈淮,颇尔微电子全球营销副总裁Soni Ankush,颇尔中国微电子事业部总经理陈磊等颇尔高层共同出席本次展会,为来宾介绍公司的宗旨和产品策略,耐心解答各类问题。在展台前,新老客户纷纷驻足,一同分享市场最前沿的信息,架起了一道交流的桥梁。
作为过滤、分离和纯化解决方案的专家, 颇尔(PALL)非常荣幸地在现场展示了适用于工艺气体、研磨液、湿式蚀刻化学品、溶剂、光阻和其他工艺消耗品的过滤产品,到场的观众可以近距离感受颇尔产品工艺的精湛之处。我们深知在半导体行业,对产品质量和工艺的精益求精至关重要。
同时,在线上,我们通过直播的形式为大家带来了一场酣畅淋漓的知识与技术的分享。我们的专家将与观众互动,解答问题,分享行业趋势和最佳实践。
Litho-光刻应用产品系列
-去除光刻胶中的颗粒及胶体,尼龙和HDPE不同材质适合不同应用场景
-减少Litho工艺中缺陷的产生
-Litho filter具有高精度,高洁净度,低金属离子析出,低有机物析出及低压损的特点
WET应用产品系列
-优良的化学兼容性,适合苛刻的应用条件
-高精度,高流量,高清洁度,低金属离子和低有机物析出
CMP应用产品系列
-渐变孔径分布,高拦截效率,不改变研磨颗粒的粒径分布
-高纳污量,高寿命,低压损
-减少scratch缺陷产生
气体过滤
-可用于过滤≥3nm的工艺气体
-适用于不同温度,不同流量,不同点位的各种反应气体,干燥空气的过滤
Profile ll®熔喷过滤器产品系列
高效绝对精度深层熔喷滤芯,采用Pall颇尔专业生产技术,可实现99.98%过滤效率。同时专业的工艺,连续变化的孔隙结构、范围广泛的孔径与滤芯的深度共同实现了滤芯的卓越使用寿命,可以延长滤芯多达六倍使用寿命。
Gaskleen®气体过滤产品系列
颇尔Gaskleen®顶部安装式过滤器组件,非常适合用于集成气体输送系统,并且易于在安装基板上进行检修和更换。该组件可在高达100slpm流速下工作,可用于多种接口。
Gaskleen®6101系列采用PFA滤芯,精度≥3nm,紧凑型设计,进出口不同大小和连接形式,大膜面积设计,实现低压差,高流量,在半导体行业广泛应用。
关于新加坡工厂
很高兴可以借SEMICON 2024 的机会与您分享 PALL 即将在新加坡建设一家新工厂的消息。 这座新工厂将配备先进的技术, 产品主要服务于光刻和湿法蚀刻应用的过滤和纯化需求,它将促进lithography和 wet-etch的进一步发展。
通过在新加坡和筑波进行大规模投资, Pall 将能够更好地满足不断增长的半导体客户需求,铸造更加稳定的供应链和更加高质量的产品。
SEMICON 2024虽已落幕
颇尔的精彩未完待续
期待SEMICON 2025
与您再见
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