中经先略：韩国半导体光刻胶需求预计达2.58亿美元

　　中国产业发展研究网讯：在半导体制程中，曝光制程非常重要，因此作为其核心材料的光刻胶占较大的生产成本，在技术与产业方面的重要性也非常高。根据北京中经先略投资咨询中心最新发布的《中国光刻胶市场现状分析及前景预测报告》显示：2011年用于韩国国内半导体产业的光刻胶量约为25万~30万加仑，产值约达3,000亿韩元(约2.58亿美元)的规模。

　　用于韩国半导体产业的光刻胶中，KrF(KrF Eximer Laser，248nm曝光)的市占率约达5成，而ArF Immersion(ArF EximerLaser，Wet制成，193nm曝光)与ArFDry(ArFEximerLaser，Dry制成，193nm曝光)的合计市占率约达25%;另外，高价位光刻胶ArFImmersion产品的年销售额，约达1,000亿韩元。

　　韩国的内存与半导体产业拥有全球领先的技术实力，因此光刻胶企业也非常重视韩国市场。供应韩国企业光刻胶的厂商有2家韩国厂商，包括东进化学、锦湖石油化工，另外有5家日本厂商，包括住友化学、TOK、信越、JSR、FFEM，以及收购罗门哈斯(Rohmand Haas)的陶氏化学等。