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苹果新专利曝光：iPhone7将回归iPhone4设计？
2015/7/26 8:33:40 来源:中国产业发展研究网 【字体：大 中 小】【收藏本页】【打印】【关闭】
核心提示： 虽然媒体最近都将目光放在iPhone6s上,但苹果显然不太想让这款产品曝光的更多。最近苹果一份新的专利曝光,在下一代苹果iPhone7上,更为经典的iPhon虽然媒体最近都将目光放在iPhone6s上,但苹果显然不太想让这款产品曝光的更多。最近苹果一份新的专利曝光,在下一代苹果iPhone7上,更为经典的iPhone4造型会更加醒目。
在这份专利中显示,苹果公司正在研发一种能够使智能手机金属边框平坦有光泽同时边缘锐利的新方法。从专利设计上可以看出,iPhone7的设计非常接近于当年大获成功的iPhone4。当然,专利上的设计仅仅只是一种可能,至于iPhone7是否真的会采用这种设计,还是等到明年9月份吧。
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